X射線輻照儀主要用于培養(yǎng)細(xì)胞,微生物,小鼠及大鼠等生物材料的輻照研究,具有劑量均勻性佳、環(huán)境劑量低、劑量可控、重復(fù)性佳等技術(shù)優(yōu)勢,可用于進(jìn)行動物模型建立(腫瘤等)、抗腫瘤/抗輻射/抗化療/抗排異/免疫治療/放射治療/抗體等藥物研究、DNA損傷、Cellcycle、細(xì)胞培養(yǎng)、干細(xì)胞(骨髓移植)、腫瘤、信號轉(zhuǎn)導(dǎo)、細(xì)胞免疫抑制治療、移植生物學(xué)、基因治療、血液學(xué)、放射生物學(xué)研究等。該系統(tǒng)主要特點如下:
劑量均勻性佳,劑量可控,更多劑量率可選擇
環(huán)境劑量低,保護(hù)實驗人員
高通量:可一次輻照8只以上小鼠或6塊細(xì)胞板
X射線輻照儀通過人工電子裝置產(chǎn)生的高能X射線(160kV-350kV)對細(xì)胞或小動物(清醒狀態(tài)和麻醉狀態(tài))進(jìn)行照射,從而用于干細(xì)胞(骨髓移植及分化,飼養(yǎng)層細(xì)胞制備、細(xì)胞誘變等)、DNA損傷、Cellcycle、細(xì)胞培養(yǎng)、血制品照射、腫瘤、信號轉(zhuǎn)導(dǎo)、免疫、基因治療、放射生物學(xué)、藥物研發(fā)等生物學(xué)輻照研究。具有安全性高、使用方便、可在普通實驗室環(huán)境下使用等優(yōu)點。
在放射治療應(yīng)用中,通常利用的X射線能量范圍為90-300kV。50-150kV被稱為淺表X射線,超過90%的入射劑量造成的損傷集中在表面以下5mm深度內(nèi),通常用于治療皮下腫瘤;而200-500kV被稱為中電壓X射線,超過90%的劑量集中在表面以下2cm的深度內(nèi),通常用于深部腫瘤的治療。
對于PXix-rad系列的X射線輻照儀,160kV型適用于細(xì)胞、細(xì)菌等及小鼠淺層照射,225kV型適用于細(xì)胞、細(xì)菌和組織器官的照射,也可用于小鼠大鼠的照射,320kV型是理想的小動物照射應(yīng)用工具,即可對小鼠進(jìn)行照射也可用于大鼠。
X射線輻照儀除用于小動物輻照,還可用于:
1.干細(xì)胞:骨髓消融與移植等;
2.免疫學(xué):如:細(xì)胞培養(yǎng)與分裂抑制研究、T/B細(xì)胞的研究和血液細(xì)胞、移植免疫、免疫抑制治療等;
3.細(xì)胞水平:細(xì)胞凋亡或老化,信號轉(zhuǎn)導(dǎo),激活位點或因子
4.基因組學(xué):基因穩(wěn)定性研究、DNA損傷;
5.癌癥生物學(xué):癌癥干細(xì)胞,腫瘤照射,放療致死劑量研究等;
6.微生物學(xué):微生物免疫、微生物DNA損傷研究、微生物抗輻射研究、微生物致弱與滅活等;
7.飼養(yǎng)層細(xì)胞制備
8.昆蟲絕育技術(shù)(SIT)
9.誘變育種
10.食品輻照
11.藥物研究:抗輻射藥物、輻射增敏藥物等。